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公司进展

进化半导体无铱工艺展露氧化镓产业化潜力

        公司“无铱工艺”取得阶段性进展,并推出更具产业化潜力的(100)偏6度衬底。

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公司完成A轮融资

        公司已完成亿元人民币A轮融资,本轮融资由中合汽车基金、同创伟业领投,深圳高新投、国发创投、浙商创投、旦恩资本、源政投资等知名专业机构跟投。 

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公司完成天使轮融资

        公司已完成数千万元人民币天使轮融资,本轮融资由新加坡淡马锡旗下的祥峰中国投资领投。 

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知识中心

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

在国际公开报道中,(100)偏6度晶面达到了高品质标准,凸显了进化半导体“无铱工艺”氧化镓实现产业化的巨大潜力。

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氧化镓何以挑战碳化硅

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

功率市场的特点就是没有所谓像集成电路领域有“当代最强”的器件,对于同一种材料来说,不能“既要便宜,也要性能好”。只有通过开发新一代材料来突破新的性能和成本瓶颈。

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无铱法让火爆的氧化镓真正具备产业化价值

氧化镓新突破——进化半导体无铱工艺展露产业化潜力

第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

市场永远是对功率密度更高、损耗更低、成本更低、性能更好的功率器件充满渴求,氧化镓正具备这种优势。目前进化半导体是国内氧化镓行业唯一采用无铱法的公司。

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第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

本文深入地围绕产业链和创新链,为产业界和投资界提供关于氧化镓材料在功率领域产业化方面的信息,并尝试结合技术数据、产业规律、市场需求等多角度的综合分析给出一些结论。

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氧化镓将在未来3-5年释放惊人潜力

第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

氧化镓将在未来3-5年释放惊人潜力

虽然前三代经典半导体技术持续发展,但已经渐渐呈现出难以满足新需求的问题,特别是难以同时满足高性能、低成本的苛刻要求。  

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第四代半导体的投资逻辑

第四代半导体氧化镓产业化的逻辑分析与展望(功率领域)

氧化镓将在未来3-5年释放惊人潜力

光电和功率等领域的先进半导体由于重要性高、技术壁垒高、市场空间大,开始逐步受到投资界和产业界的关注。 

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浅析几种迁移率的概念

浅析几种迁移率的概念

浅析几种迁移率的概念

 迁移率的概念可以分为三种:1.最基础的迁移率定义; 2. 体材料里的迁移率;3. 晶体管中的迁移率。 

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