氧化镓,化学式为Ga2O3,作为超宽禁带半导体材料,其禁带宽度约为4.9 eV,理论击穿场强为8 MV/cm,具有4倍于GaN,10倍于SiC以及3444倍于Si的Baliga技术指标。
作为半导体材料专家,公司也提供其他化合物半导体衬底材料
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